အဆင့်မြင့် တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်းထုတ်လုပ်သည့် နည်းပညာများ တီထွင်နိုင်ရေးအတွက် ဂျပန်အမျိုးသား သုတေသနအဖွဲ့အနေဖြင့် အမေရိကန်နိုင်ငံမှ တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်း ထုတ်လုပ် သည့် Intel ကုမ္ပဏီနှင့် ပူးပေါင်း၍ သုတေသနနှင့်ဖွံ့ဖြိုးမှုစင်တာကို တည်ထောင်သွားမည် ဖြစ်ပါသည်။

အဆိုပါ သတင်း၌ လာမည့် ၃ နှစ်မှ ၅ နှစ်အတွင်း တည်ဆောက်မည့် သုတေသနစင်တာ အသစ်တွင် Ultraviolet Lithography (EUV) စက်ကို အသုံးပြုနိုင်ရေး ဆောင်ရွက်သွားမည် ဖြစ်ကြောင်း၊ စက်ကိရိယာပစ္စည်းများထုတ်လုပ်သည့် ကုမ္ပဏီများအနေဖြင့် ပုံစံတူထုတ်လုပ် ခြင်းနှင့် စမ်းသပ်ခြင်းများ ဆောင်ရွက်ရန်အတွက် သုတေသနစင်တာအသစ်တွင် အခကြေးငွေ ပေးသွင်း၍ ဆောင်ရွက်နိုင်မည် ဖြစ်ကြောင်း၊ စက်မှုလုပ်ငန်းကဏ္ဍတွင် လုပ်ကိုင်နေသူများ အနေဖြင့် Ultraviolet Lithography (EUV) စက်ကို ပူးတွဲအသုံးပြုနိုင်သော ဂျပန်နိုင်ငံရှိ ပထမဆုံးသုတေသနစင်တာ ဖြစ်လာမည် ဖြစ်ကြောင်း ဖော်ပြထားပါသည်။

ဂျပန်နိုင်ငံ စီးပွားရေး၊ ကုန်သွယ်ရေးနှင့် စက်မှုဝန်ကြီးဌာနအောက်ရှိ Japan’s National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST) အနေဖြင့် သုတေသန စင်တာအသစ်ကို တာဝန်ယူတည်ဆောက်သွားမည် ဖြစ်ပြီး၊ Intel ကုမ္ပဏီအနေဖြင့် Ultraviolet Lithography (EUV) နည်းပညာကို အသုံးပြု၍ ချပ်စ်ထုတ်လုပ်နိုင်မည့် အသိပညာများကို ပံ့ပိုး ပေးသွားမည် ဖြစ်ကြောင်း၊ သုတေသနစင်တာအသစ်ကို အမေရိကန်ဒေါ်လာသန်း ရာပေါင်း များစွာ ရင်းနှီးမြှုပ်နှံသွားမည်ဟု မျှော်လင့်ထားကြောင်း ဖော်ပြထားပါသည်။

သုတေသနစင်တာအသစ် တည်ထောင်ရခြင်းမှာ ဂျပန်နိုင်ငံ၏ တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်း ထုတ်လုပ်မှုနည်းပညာဆိုင်ရာ ကျွမ်းကျင်မှုများ ပိုမိုမြှင့်တင်နိုင်ရန်နှင့် ဂျပန်နိုင်ငံတွင် တစ်ပိုင်း လျှပ်ကူးပစ္စည်းထုတ်လုပ်သည့် လုပ်ငန်းများ ပိုမိုများပြားလာစေရန် ဖြစ်ကြောင်း ဖော်ပြထား ပါသည်။

Ultraviolet Lithography(EUV)သည် ၅ နာနိုမီတာအောက် အရွယ်အစားရှိသည့်တစ်ပိုင်း လျှပ်ကူးပစ္စည်းများ ထုတ်လုပ်ရန်အတွက် အရေးပါသည့် နည်းပညာဖြစ်ကြောင်း၊ နာနိုမီတာ အရွယ်အစားပိုမိုသေးငယ်လေလေ ချစ်ပ်ပေါ်တွင် Transistors အရေအတွက်များများ ထည့်သွင်း နိုင်လေလေ ဖြစ်ပြီး၊ တွက်ချက်မှုဆိုင်ရာ စွမ်းဆောင်ရည်များလည်း ပိုမိုကောင်းမွန်လာကြောင်း၊ Ultraviolet Lithography (EUV) Equipment တစ်လုံးလျှင် ယန်း ၄၀ ဘီလီယံ (အမေရိကန် ဒေါ်လာ ၂၇၃ သန်း) ရှိသည့်အတွက် စက်ကိရိယာများ ထုတ်လုပ်သူများအနေဖြင့် ကိုယ်ပိုင် ငွေကြေးဖြင့် ဝယ်ယူထုတ်လုပ်နိုင်ရန်အတွက် ရင်းနှီးမြှုပ်နှံရန် ခက်ခဲကြောင်း၊ ထို့ကြောင့် ချပ်စ် ထုတ်လုပ်သည့် လုပ်ငန်းများအနေဖြင့် ဘလ်ဂျီယံနိုင်ငံရှိ Imec ကဲ့သို့သော သုတေသနစင်တာ များရှိ Ultraviolet Lithography (EUV) စက်ကို အသုံးပြု၍ စက်ရုံအတွက် လိုအပ်သည့် ထုတ် ကုန်များကို ထုတ်လုပ်ရကြောင်း၊ ဂျပန်နိုင်ငံတွင် ချပ်စ်ထုတ်လုပ်သည့် Rapidus အနေဖြင့် အဆင့်မြင့် တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်းများ အမြောက်အများ ထုတ်လုပ်နိုင်ရေးအတွက် Ultraviolet Lithography (EUV) စက်ကို ဒီဇင်ဘာလအတွင်း မိတ်ဆက်သွားရန် ရှိကြောင်း၊ သို့သော် ဂျပန် နိုင်ငံရှိ သုတေသနစင်တာများတွင် လက်ရှိအချိန်အထိ Ultraviolet Lithography (EUV) စက် မရှိသေးကြောင်း ဖော်ပြထားပါသည်။

အမေရိကန်နှင့်တရုတ်အကြား ပြိုင်ဆိုင်မှု ပြင်းထန်လာသည်နှင့်အမျှ အမေရိကန်နိုင်ငံ အနေဖြင့် Ultraviolet Lithography (EUV) နှင့်ဆက်စပ်သော ပစ္စည်းများအား အမေရိကန်မှ တရုတ်နိုင်ငံသို့ တင်ပို့မှုအပေါ် တင်းကြပ်သည့် စည်းမျဉ်းများ သတ်မှတ်ခဲ့ကြောင်း၊ ထိုသို့ ချမှတ် ခဲ့မှုကြောင့် ဂျပန်နိုင်ငံပြင်ပတွင် သုတေသနများ ဆောင်ရွက်ပြီး ရရှိလာသည့် အချက်အလက်များ ကို ဂျပန်နိုင်ငံသို့ ပြန်လည်ရယူနိုင်ရေး စိန်ခေါ်မှုများ ဖြစ်ပေါ်စေလျက် ရှိကြောင်းနှင့် ပြည်တွင်းရှိ သုတေသနစင်တာတွင် Ultraviolet Lithography (EUV)စက် ရရှိနိုင်ခြင်းဖြင့် အဆိုပါ စိန်ခေါ်မှု များကို နည်းပါးစေနိုင်မည် ဖြစ်ကြောင်း၊ ချပ်စ်ထုတ်လုပ်ရန်အတွက် လုပ်ငန်းစဉ် ၆၀၀ ကျော် လိုအပ်သည့်အတွက်တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်းနှင့်ဆက်စပ်သည့်စက်ပစ္စည်းကိရိယာများ ထုတ်လုပ် နိုင်ရေးမှာ အရေးပါလျက်ရှိကြောင်း ဖော်ပြထားပါသည်။

Source: The Nikkei Asia (၃-၉-၂၀၂၄)  

(သူဇာဖြိုး၊ စီးပွားရေးသံမှူး၊ မြန်မာသံရုံး၊ တိုကျိုမြို့)